SETO 1.60 lente fotokromikoa SHMC

1) Zer da spin estaldura?

Spin estaldura film mehe uniformeak substratu lauetan uzteko erabiltzen den prozedura da.Normalean estaldura-material kopuru txiki bat aplikatzen da substratuaren erdialdean, abiadura baxuan bira egiten ari dena edo ez da batere bira egiten.Ondoren, substratua 10.000 rpm-ko abiaduran biratzen da estaldura-materiala indar zentrifugoaren bidez zabaltzeko.Spin estaldura egiteko erabiltzen den makina bat spinner deitzen da, edo besterik gabe spinner.
Biraketa jarraitzen da fluidoa substratuaren ertzetatik iragaten den bitartean, filmaren nahi den lodiera lortu arte.Aplikaturiko disolbatzailea lurrunkorra izan ohi da, eta aldi berean lurrundu egiten da.Zenbat eta biraketaren abiadura angelu handiagoa izan, orduan eta meheagoa izango da filma.Filmaren lodiera disoluzioaren biskositatearen eta kontzentrazioaren eta disolbatzailearen araberakoa da ere.[2]Spin-estalduraren azterketa teoriko aitzindaria Emslie et al.-ek egin zuten, eta ondorengo egile askok zabaldu dute (tartean, Wilson et al.,[4], spin-estalduraren hedapen-tasa aztertu zuten; eta Danglad-Flores et al., ). [5] deskribapen unibertsala aurkitu zuen, metatutako filmaren lodiera iragartzeko).
Spin estaldura oso erabilia da beira edo kristal bakarreko substratuetan oxido geruza funtzionalen mikrofabrikazioan sol-gel aitzindariak erabiliz, non eskala nanoeskalako film mehe uniformeak sortzeko erabil daitekeen.[6]Fotolitografian intentsiboki erabiltzen da, mikrometro 1 inguruko lodiera duten fotorresistentzia geruzak uzteko.Photoresist normalean 20 eta 80 bira segundoko bira egiten da 30 eta 60 segundotan.Polimeroz egindako egitura fotoniko planarren fabrikaziorako ere asko erabiltzen da.
Film meheak estaltzeko biraketaren abantaila bat filmaren lodieraren uniformetasuna da.Autonivelazioari esker, lodiera ez da %1 baino gehiago aldatzen.Dena den, polimeroen eta foto-erresistentzien film lodiagoen biran estaldurak ertz-ale handi samarrak sor ditzake, zeinen planarizazioak muga fisikoak dituen.