Seto 1.60 Lens shmc fotokromikoa

1) Zer da Spin estaldura?

Spin estaldura film finak substratu lauetan uniformeak gordetzeko erabiltzen den prozedura da. Normalean estaldura-material kopuru txikia substratuaren erdian aplikatzen da, abiadura baxuan biraka edo ez da batere biraka. Substratua 10.000 rpm-ko abiadura biratzen da, estaldura-materiala indar zentrifugoaren bidez zabaltzeko. Spin estaldurarako erabiltzen den makina bat spin kater deritzo, edo, besterik gabe, spinner.
Biraketa jarraitu da fluidoak substratuaren ertzetik biratzen dituen bitartean, nahi duzun filmaren lodiera lortu arte. Aplikatutako disolbatzailea normalean lurrunkorra da, eta aldi berean lurruntzen da. Biraketaren abiadura angeluarra, filma meheagoa. Filmaren lodiera konponbidearen biskositatearen eta kontzentrazioaren araberakoa da, eta disolbatzailea. [2] Spin estalduraren azterketa teoriko aitzindaria EMSLIE et al-ek egin du. [5] Deskribapen unibertsala aurkitu dutenak metatutako filmaren lodiera aurreikusteko).
Spin estaldura oso erabilia da oxido geruza funtzionalen mikrofabrikazioan beira edo kristal bakarreko subjektiboetan. Sol-gelen aitzindariak erabiliz, non nanoscale lodiera duten film mehe uniformeak sortzeko erabil daiteke. [6] Fotolitografian modu intentsiboan erabiltzen da, fotoresistaren geruzak 1 mikrometro lodian gordetzeko. Fotoresistarena, normalean, 20 eta 80 iraultzetan izaten da 30 eta 60 segundotan. Polimeroez egindako egitura fotoniko planoak fabrikatzeko ere oso erabilia da.
Abantaila bat spin estaldura film meheak filmaren lodieraren uniformetasuna da. Auto-berdinketa dela eta, lodiera ez da% 1 baino gehiago aldatu. Hala ere, polimeroen eta fotoresisten film lodiagoak estalduraren estaldurak ertz handiko aleak sor ditzakete, eta horien planarizazioak muga fisikoak izan ditzake.